?運(yùn)營(yíng)商財(cái)經(jīng) 康釗/文

近日，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML.US)表示，該公司已經(jīng)開(kāi)始將其第一臺(tái)最新芯片制造機(jī)器的最核心部件運(yùn)往美國(guó)芯片制造商英特爾(INTC.US)旗下的芯片工廠，這意味著英特爾首個(gè)獲得這種全球最先 進(jìn)的光刻機(jī)。

NA EUV光刻機(jī)目前是全球技術(shù)最先 進(jìn)的光刻機(jī)，采用0.55 NA的鏡頭，能夠?qū)崿F(xiàn)8nm級(jí)別的分辨率，而標(biāo)準(zhǔn)的EUV技術(shù)使用0.33 NA的鏡頭。因此，這種新NA技術(shù)能夠在晶片上打印更小的特征尺寸，對(duì)于2nm及以下節(jié)點(diǎn)的芯片制造技術(shù)大有幫助。

這種光刻機(jī)的價(jià)格驚人，定價(jià)約為2.5億歐元(大約2.75億美元)，阿斯麥之前的最高端光刻機(jī)售價(jià)約為1.8億美元。

即便這么昂貴，但NA EUV光刻機(jī)依然非常搶手，阿斯麥計(jì)劃在2024年生產(chǎn)最多10臺(tái)NA( EUV極紫外光刻機(jī)，其中英特爾就定了多達(dá)6臺(tái)，臺(tái)積電和三星只能望而興嘆。其余想買(mǎi)的企業(yè)還有日本的半導(dǎo)體設(shè)備巨頭東京電子和美國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備商應(yīng)用材料，中國(guó)的中芯國(guó)際也想買(mǎi)，但阿斯麥不敢出售給中芯國(guó)際，因?yàn)楹ε率苊绹?guó)制裁。

新款光刻機(jī)似乎越來(lái)越貴，有消息說(shuō)，被稱(chēng)為EXE:5200B的“第二代high-NA EUV機(jī)器”將具有更高的生產(chǎn)率，價(jià)格超過(guò)3.5億歐元，芯片業(yè)完全成了資本實(shí)力的競(jìng)爭(zhēng)。

（責(zé)任編輯：韓麗）

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