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目前，很多人一聽說華為招光刻機工程師就以為華為立刻能研發出光刻機。但實際上，華為5年內估計也難研發出光刻機。這是因為光刻機技術難度太大了。

高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。

而中國科學院半導體所開始研制JK-1型半自動接近式光刻機并在1981年研制成功兩臺樣機。當時中國已經知道分步投影光刻技術的顯著優點，但是苦于國內生產工藝尚不成熟，所以很難實現。

為何呢？因為能研發出光刻機，沒有產業化也沒用。據了解，我們國家的光刻機研發一直是國有科研單位下面的上海微電子在研發，但與市場脫節。

那時流行的是自己做不如買，自己研發不如進口。所以，有人總結說，中國的光刻機研發一直有亮點，但始終被甩在后面。

而且，中國對自己研發的光刻機的自我評價還一直比較高。1985年，電子45所研制出了分步光刻機樣機，通過技術鑒定時，還認為達到美國4800DSW的水平。當時認為，按照這個時間節點算，中國在分步光刻機上與國外的差距不超過7年(美國是1978年)。

可實際呢？比美國相比落后7年并不是指落后于全球7年。因為美國的光刻機技術當時并不是全球最先進的，全球最好的光刻機當時是日本的尼康、佳能等。

所以，即便華為來研發光刻機也需要有清醒的認識，荷蘭ASML公司花了吃奶的力氣才研發出EUV光刻機，單臺EUIV設備里超過十萬個零件，4萬個螺栓以及3000多條線路。僅僅軟管加起來，就有兩公里長。這么一臺龐大的設備，重量足足有180噸。而且，里面還要大量的高端化學材料。這些高端化學材料又掌握在日本企業手里，如果日本企業不肯賣，那就糟了，相當于線索中斷了。

所以，對華為研發光刻機也不可盲目樂觀，只能說華為有決心，是好事。

（責任編輯：楊丹丹）

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